《现代光电子成像技术概论(第2版光学工程类)》(作者向世明)是工业和信息化部国防科技工业教育“十一五”规划国防特色专著之一,内容涉及X线及短波辐射成像、紫外线成像、可见光成像、微光成像、红外成像、微波成像、遥感成像、高速摄影摄像、光子计数成像和医疗成像等现代光电子成像器件和系统技术,分别详细介绍它们的系统组成、测试评价及其**发展动态等。这一高新技术,对研究、开发、应用各类观察、瞄准、告警,测绘以及航天遥感、高速摄影、弱光探测等,具有重要实用意义,对从事相关领域科研、教学、生产和应用的读者,有一定参考和借鉴作用。
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在中国航天光学遥感事业50周年之际,北京空间机电研究所组织专家编写此书,回顾历史,总结经验,是一件很有意义的事情。本书的出版将对今后的研制工作起到推动作用。
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本书介绍了光学设计的理论和设计方法,内容主要涉及三个方面:光学系统的像质评价方法和像差理论知识,采用各种像质评价方法来评价光学系统的成像质量;光学自动设计原理和程序,国内*为流行的光学设计软件zemax的使用方法;各类典型光学仪器的设计方法和步骤。理解这些光电仪器设计的理论和实际知识、学习光学设计的像差理论和像差校正方法、掌握国际上流行的光学设计软件的基本使用方法对于光电类研究人员是非常必要的。
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