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1. 本书概况 极紫外光刻是光刻里的技术,它是7nm及以下芯片制造的核心的技术关键。本书综合地介绍了极紫外光刻技术相关联的各个重要方面及其发展历程,不仅论述了极紫外光源、极紫外光刻曝光系统、极紫外掩模板、极紫外光刻胶、极紫外计算光刻的技术内容,而且还讨论了极紫外光刻生态系统的其他重要方面。 2.本书特色 (1)本书是一本论述极紫外光刻技术的的专著,有关极紫外光刻技术许多的研发内容都有所介绍和讨论。 (2)目前尚没有一本中文版的有关极紫外光刻技术的专门论著或译著,对于从事芯片领域的从业技术人员,这是一本非常及时且内容丰富的参考书。 (3)本书从内容上看新颖又全面,从形式上看详实又精炼。
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