光学光刻和极紫外光刻 系统解读光学光刻技术,支持“摩尔定律”的延续
1. 本书概况 光刻机常被成称为 半导体工艺皇冠上的明珠 。谁掌握了光刻机制造技术,谁就可以在大国博弈中立于不败之地。本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的共性内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 2.本书特色 (1)本书是一本系统解读光学光刻技术的专著,涵盖了该领域各个重要方面,既有理论的深度又有内容的广度。 (2)目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华,对于从事芯片领域的专业技术人员,这是一本手册性的内容丰富的参考书。 (3)本书由ASML团队匠心翻译。
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光学制造中的材料科学与技术(极端条件材料基础理论及应用研究) 来自美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室,开拓了光学制造领域一个新的研究视角
1.原著作者塔亚布 I.苏拉特瓦拉(Tayyab I. Suratwala)博士,在劳伦斯利弗莫尔国家实验室的工作生涯中,为美国国家点火工程在光学和制靶领域做出了杰出贡献。本书即为作者及其团队长期以来在光学制造领域的工作总结。 2.本书既是光学制造理论的梳理,也是现代光学制造技术与应用的汇总,是一部兼具理论、方法和实际应用价值的教科书和参考书。 3.美国国家点火工程是迄今为止人类建设的光学工程,已经建成的点火驱动器装置是一项伟大的创举,其无论是在新材料的研制、光学加工的发展、光学检测的进步以及大型光学系统装校和激光器技术等方面都创造了里程碑式的成就,是我国在激光工程技术领域以及光学材料、光学加工、光学检测等领域长期学习和追赶的目标。 4.苏拉特瓦拉博士编写的这本《光学制造中的材料科学与技术》与过去讨论光学制造的著作
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