工业设计史论 全国高等教育自学考试指导委员会 全国高等教育自学考试指定教材
本书是全国高等教育自学考试指定教材，艺术类2024年版，由全国高等教育自学考试指导委员会组编，清华大学美术学院长聘副教授蒋红斌主编。本书系统地梳理了工业设计的历史发展脉络,涵盖了各个时期的重要设计事件、设计师和设计作品。本书具有引导启发性、系统综合性、时效前沿性。可帮助学习者全面了解工业设计的发展历史, 洞悉工业设计的本质及其发生发展的规律, 掌握分析评判工业设计现象的基本方法, 提高工业设计创作鉴赏的能力。
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本书遵循教育.部教指委相关指导文件和高等院校学生学习规律编写而成。践行四新理念，融入思政元素，注重理论与实践相结合。
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1.作者来自一线电机制造和修理企业，书中内容均来自实践，很多内容都是作者亲身经历的案例，现场指导性极强。2.“一相连绕、掏包下线”工艺全揭秘，提供工艺彩图，这部分内容在其他书籍中很少能见到。3.图文并茂，系统地讲述了交流电机绕组的手工绕线、嵌线、接线和整形工艺的全过程。
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CMOS集成电路闩锁效应 全彩大图剖析IC集成电路制造制程工艺可靠性设计ESD难题
本书主要介绍集成电路工艺制程技术的发展过程，集成电路工艺制造技术从*初的BJT工艺制造技术发展到CMOS工艺制造技术，同时器件也从*初的BJT发展的MOSFET。由于体CMOS集成电路中所固有的寄生NPN和寄生PNP会组成的电路，它在一定的条件下被触发而形成低阻通路，从而产生大电流，并且由于正反馈电路的存在而形成闩锁，导致CMOS集成电路无法正常工作，甚至烧毁芯片，通常把该现象称为闩锁效应。闩锁效应存在于体CMOS集成电路中，它一直是CMOS集成电路可靠性的一个潜在的严重问题，随着CMOS工艺技术的不断发展，工艺技术日趋先进，器件的特征尺寸越来越小，并且器件间的间距也越来越小，集成电路的器件密度越来越大，集成电路的闩锁效应变得越来越严重，特别是在IO电路中。
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电子商务网页图像（Adobe Photoshop CS6）（第二版） 正版图书
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