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《现代集成电路制造工艺原理》围绕当代集成电路制造的基础工艺，重点介绍所涉及的基本原理，并就当前集成电路芯片制造技术的新发展作了较为详尽的阐述。本书可作为普通高校或职业技术院校理、工科本（专）科电子科学技术（一级学科）下微电子学与固体电子学及微电子技术方向、集成电路设计及集成系统或微电子技术专业的专业课教材、微电子相关专业的研究生选修课教材，亦可作为集成电路芯片制造企业工程技术人员参考书。本书共分为十一章，章至第八章以叙述基本工艺原理为主，主要包括 硅材料及衬底制备 外延生长工艺原理 氧化介质薄膜生长 半导体的高温掺杂 离子注入低温掺杂 薄膜气相淀积工艺 图形光刻工艺原理 掩模制备工艺原理。第九章收入了当代诸多超大规模集成制造工艺的相关内容，并以当代超大规模集成电路所具有的小尺寸特征为
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