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本书是围绕国家集成电路发展重大需求,根据《国家集成电路产业发展推进纲要》,由机械工业出版社组织编著的“集成电路关键技术丛书”之一。集成电路是半导体产业*核心且技术含量*高的领域,是现代信息社会的基础,也是我国必须掌握的核心技术之一。集成电路产业包括设计、制造和封测三大方面。而制造工艺与设备则是集成电路设计*终的落地。本书首先讲述了半导体产业变化漫长历史中的工艺和设备,再按照集成电路典型制造工艺流程来讲述硅的氧化、光刻、刻蚀、半导体掺杂和淀积等主要工艺。在讲述工艺的同时将工艺需求和设备性能的技术关系也进行论述。总而言之,本书将系统地阐述了半导体制造的主要工艺流程,并在此基础上,将对实现主要工艺的半导体制造设备从其结构和原理进行剖析,使本书更加具有实际的工业应用价值。
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