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晶体生长基础与技术 王国富 李凌云著 王国富;李凌云 9787030748430 科学出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
本书系统介绍了人工晶体生长的基础理论和相图技术,在此基础上全面介绍了人工晶体生长主流技术如水溶液法、助熔剂法、水热法、焰熔法、提拉法和坩埚下降法等,详细介绍了上述人工晶体生长技术的基本原理、设备设计与构造、生长工艺以及它们的优缺点等。同时,作者结合自身多年科研工作成果积累,选择性介绍了几种重要的光电子晶体材料的生长技术。
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本书共分4篇14章。篇首先对晶体生长所涉及的热力学与动力学原理及其已经广被接受的晶体生长的基本理论,包括晶体生长的形核和生长的界面过程、晶体生长过程的形态演变等作了简要介绍。第二篇对晶体生长技术涉及的共性基础进行了分析,其中包括传质、传热和流体流动的基本原理;晶体生长的化学原理及其在原材料的提纯与合成中的应用;应用于晶体生长的各种物理原理。第三篇主要探讨晶体生长技术,分类对各种晶体生长方法的发展及其控制原理和技术进行了分析,分4章分别讨论了Bridgman法及其相关方法、Czochralski法及其相关方法、溶液生长方法和气相生长方法。第四篇分2章分别讨论了各种晶体缺陷及其形成原理,晶体成分、结构和主要物理性能的表征方法及其测试技术。
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《晶界与晶体塑性》共六章,章为晶界结构与缺陷,第2章为晶界变形的基本机制,第3章为冷变形晶界,第4章为蠕变与高温塑性——晶界动力学,第5章为晶间疲劳,第6章为晶间偏析与晶体材料的断裂。
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