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纳米压印技术周伟民 编科学出版社9787030325594 正版旧书，保证质量，此书为单本而非一套，电子发票！
近年来，纳米压印技术迅猛发展，已引起业界广泛关注。《纳米压印技术》结合作者所在单位——纳米加工技术实验室的研究工作，基于近年来纳米压印的研究成果编写而成。纳米压印技术包括压印图形转移和后续的刻蚀结构转移过程。《纳米压印技术》首先简单介绍了纳米压印技术的研究现状；然后系统介绍了压印模板的制备和处理、压印用光刻胶、压印工艺和刻蚀工艺等，并着重阐述了纳米压印加工制造技术；此外，还介绍了纳米压印技术在半导体光电器件、半导体存储器件、生物技术和生命科学等领域的新应用。 《纳米压印技术》可供微纳加工、电子器件、生物芯片等领域的科研人员及工程技术人员参考，也可作为高等院校相关专业研究生和高年级本科生的教材或参考书。
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集成电路的电磁兼容：低发射、低敏感度技术[法]齐亚（Sonia Ben Dhia）、[法]齐亚（Sonia Ben Dh 正版旧书，保证质量，此书为单本而非一套，电子发票！
《集成电路的电磁兼容：低发射、低敏感度技术》的宗旨是综述集成电路的电磁兼容现象，介绍新的EMC测量方法和EMC建模方法。《集成电路的电磁兼容：低发射、低敏感度技术》给出了集成电路辐射和敏感度的历史与现状、基本概念及原理，并通过各种案例给出了详细的建模方法、测量方法，以及一些企业和科研实验室的仿真与测量结果，有助于集成电路和电子系统设计人员减少IC和电子系统的寄生发射，以及对射频干扰的敏感度。 《集成电路的电磁兼容：低发射、低敏感度技术》是在集成电路的EMC方面的专门的信息汇总，希望能够为广大集成电路电磁兼容的专家、学者、设计工程师、电子工程学爱好者提供帮助。
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CMOS模拟集成电路设计 菲利普 E. 艾伦,道格拉斯 R. 霍尔伯格 电子工业出版社【正版】 全国三仓发货，物流便捷，下单秒杀，欢迎选购！
《CMOS模拟集成电路设计(第2版)》从CMOS技术的前沿出发，将作者丰富的实践经验和教学经验相结合，对CMOS模拟电路设计的原理和技术给出了深入和详尽的论述。《CMOS模拟集成电路设计(第2版)》有两个主要目标： ·将理论与实践结合，在内容处理上既不肤浅也不拘泥于细节 ·使读者能够应用层次化设计方法进行模拟集成电路设计 第二版中讲到的多数技术和原理已为工业界读者所知，他们提出的问题和需求对《CMOS模拟集成电路设计(第2版)》的修订起到很大作用，从而使这个版本成为工程技术人员的更有价值的参考书。 《CMOS模拟集成电路设计(第2版)》的特点是其独特的设计方法，该方法可使读者循序渐进地经历创建实际电路的过程，并能够分析复杂的设计问题。《CMOS模拟集成电路设计(第2版)》详细讨论了容易被忽略的问题，同时有意识地淡化了双极型模拟电路，因为C
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