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由于工艺尺寸从微电子到纳电子等比例缩小,过电应力(EOS)持续影响着半导体制造、半导体器件和系统。本书介绍了EOS基础以及如何减缓EOS失效。本书提供EOS现象、EOS成因、EOS源、EOS物理、EOS失效机制、EOS片上和系统设计等清晰图片,也提出关于制造工艺、片上集成和系统级EOS保护网络中EOS源等富有启发性的观点,同时给出特殊工艺、电路和芯片的实例。本书在内容上全面覆盖从片上设计与电子设计自动化到工厂级EOS项目管理的EOS生产制造问题。
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