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先进半导体集成设计研究 刘溪、吴美乐、靳晓诗 科研成果、先进半导体
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半导体激光器电子能带结构和光增益的量子理论 正版图书,下单速发,可开发票
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随着国家对绿色节能照明技术的大力提倡,近年来LED照明技术得到了飞速发展。市场需求正在驱动LED向家居照明、背光源和景观灯等领域发展。 房海明编著的《LED灯具设计与案例详解》内容介绍:LED即发光二极管,是一种可将电能转换为光能的半导体发光器件,属于固态光源。在通用照明领域,LED照明灯具具有体积小、重量轻、节能、寿命长、容易控制及适应各种恶劣环境等优点,是典型的绿色照明光源。随着大功率白光LED的研发成功,使它在照明领域的应用更加广泛。
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IGBT和IPM及其应用电路 周志敏,周纪海,纪爱华 著 人民邮电出版社【达额立减】 正版图书,下单前请先咨询客服,欢迎选购!
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常用三级管替换手册本书编写组北京科学技术出版社9787530426623 正版旧书,保证质量,此书为单本而非一套,电子发票!
本书搜集整理了2002年之前,国内外数百家三极管生产厂家生产的3万余种我国电子元器件市场上广泛应用的常用三极管型号。全书共分两大部分。第一部分介绍了三极管材料、特性、用途等的查阅方法。第二部分以表格的形式介绍了器件型号、常名、参数、替换型号及外形参考图等;第1栏为器件型号,按A、B、C、D.....英文字母顺序和1、2、3、4....数字大小一次排列;第2栏为生产厂名:第3栏为器件用途于参数,详细表示出器件的用途及极限参数电压、电流、功率和&值;第4栏为图号;第五栏为国内外相似替换器件;第6栏为外形参考图,将器件外形根据内容需要排列在同一页面上。该书的特点是:内容丰富、数据准确、图文并茂、查阅方便、版面美观、物美价廉。
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硅半导体器件辐射效应及加固技术 正版图书,下单速发,可开发票
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半导体器件物理与工艺【正版图书】 正版书籍,满额减,电子发票
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真空镀膜设备 张以忱 著 9787502450144 冶金工业出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择,其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜的膜厚均匀性设计。全书共分13章,主要讲解真空镀膜室结构、镀膜室工件架、真空镀膜机的加热与测温装置、真空镀膜机的抽气系统、真空室电和运动的导入结构、溅射镀膜设备的充布气系统、蒸发源、磁控溅射靶、溅射镀膜的膜厚均匀性等方面的设计与计算。 《真空镀膜设备》有很强的实用性,适合真空镀膜设备的设计制造、真空镀膜设备的应用等与真空镀膜技术有关的行业从事设计、设备操作与维护的技术人员使用,还可用作高等院校相关专业师生的教材及参考书。
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半导体先进光刻理论与技术 光刻理论工艺材料设备关键部件分辨率增强建模与仿真典型物理与化学效应 微电子材料工程专业参考教材 正版图书 可开发票
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半导体测试技术原理与应用 刘新福 杜占平 李为民 冶金工业出版社 9787502441012
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半导体制造技术导论 (第2版) [美]萧宏 杨银堂、 【正版保证】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
《半导体制造技术导论(第2版)》共包括5章,第章概述了半导体制造工艺 第2章介绍了基本的半导体工艺技术 第3章介绍了半导体器件、集成电路芯片,以及早期的制造工艺技术 第4章描述了晶体结构、单晶硅晶圆生长,以及硅外延技术 第5章讨论了半导体工艺中的加热过程 第6章详细介绍了光学光刻工艺 第7章讨论了半导体制造过程中使用的等离子体理论 第8章讨论了离子注入工艺 第9章详细介绍了刻蚀工艺 第0章介绍了基本的化学气相沉积(CVD)和电介质薄膜沉积工艺,以及多孔低k电介质沉积、气隙的应用、原子层沉积(ALD)工艺过程 第章介绍了金属化工艺 第2章讨论了化学机械研磨(CMP)工艺 第3章介绍了工艺整合 第4章介绍了先进的CMOS、DRAM和NAND闪存工艺流程 第5章总结了本书和半导体工业未来的发展。
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