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梁竹关、赵东风编著的《MOS管集成电路设计》根据集成电路没计的特点,结合集成电路制造和封装测试的有关知识和技术,系统介绍了MOS管集成电路设计的有关基础理论知识、半导体集成电路基本加工工艺和设计规则、MOS管集成电路版图设计的一些方法和技巧、MOS管数字集成电路的基本逻辑单元、MOS管模拟集成电路的基本元器件和基本电路单元,分析了典型数字集成电路和模拟集成电路的设汁方法及实现过程,引入了一些常见的数字集成电路和模拟集成电路设计技术。书中既介绍了集成电路设计的有关理论知识,又介绍了集成电路设计的一些实用方法和技术。 《MOS管集成电路设计》可作为高等院校电子科学与技术、电子信息科学与技术、电子信息工程及通信工程等专业的本科生和研究生教材,也可供有关科研人员和工程技术人员参考。
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半导体的检测与分析 许振嘉 科学出版社【达额立减】 正版旧书,保证质量,此书为单本而非一套,电子发票!
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本书全面汇编了国内外电气和电子设备中所使用的晶体三极管及其模块的实用关键参数和带环型号,内容涉及2006年以前国内外三极管生产厂家的大部分新晶体三极管(包括晶体三极管模块)的型号。全书共分三部分:第一部分介绍了该手册的查阅方法;第二部分介绍了晶体三极管的型号命名、使用和检测访求等基础知识;第三部分以表格的形式介绍了晶体三极管的型号(国别)、主要参数、构成材料和近似置换。本书内容全面、查阅简单、携带方便,使一班介绍晶体三极管及其模块关键参数和代换资料的新工具书。 本书适合于电气和电子设备维修、设计、研究、生产、制作人员,电子器件销售人员及电子爱好者查阅。
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《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择,其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜的膜厚均匀性设计。全书共分13章,主要讲解真空镀膜室结构、镀膜室工件架、真空镀膜机的加热与测温装置、真空镀膜机的抽气系统、真空室电和运动的导入结构、溅射镀膜设备的充布气系统、蒸发源、磁控溅射靶、溅射镀膜的膜厚均匀性等方面的设计与计算。 《真空镀膜设备》有很强的实用性,适合真空镀膜设备的设计制造、真空镀膜设备的应用等与真空镀膜技术有关的行业从事设计、设备操作与维护的技术人员使用,还可用作高等院校相关专业师生的教材及参考书。
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