
2册 衍射极限附近的光刻工艺 第2版二+半导体芯片和制造 理论和工艺实用指南 光刻设备光刻材料光刻成像理论计算建模思想技 全新正版,可开发票
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![半导体器件:计算和电信中的应用[美]布伦南 著;高建军、刘新宇 译机械工业出版社9787111298366](images/model/guan/url_none.png)
半导体器件:计算和电信中的应用[美]布伦南 著;高建军、刘新宇 译机械工业出版社9787111298366 正版旧书,保证质量,此书为单本而非一套,电子发票!
本书从半导体基础开始,介绍了目前电信和计算产业中半导体器件的发展现状,在器件方面为电子工程提供了坚实的基础。内容涵盖未来计算硬件和射频功率放大器的实现方法,阐述了计算和电信的发展趋势和系统要求对半导体器件的选择、设计及工作特性的影响。 本书首先讨论了半导体的基本特性;接着介绍了基本的场效应器件MODFET和MOSFET,以及器件尺寸不断缩小所带来的短沟道效应和面临的挑战;后讨论了光波和无线电信系统中半导体器件的结构、特性及其工作条件。 本书不仅可以作为研究生教材,也可为本领域工程师和研究人员提供参考。
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【2册 光刻技术+半导体先进光刻 】 光刻技术 原著第二版 林本坚 半导体芯片制造集成电路光刻技术 驱动光学光刻基本方程 正版书籍 七天无理由退换货【让您无忧购物】
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DC-AC逆变技术及其应用 陈道炼 编著 机械工业出版社【正版】 全国三仓发货,物流便捷,下单秒杀,欢迎选购!
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LED照明产品质量控制与国际认证 正版图书,下单速发,可开发票
本书分为8章,主要介绍:LED产业发展概况、LED产品电气安全、电磁兼容、光度学和色度学、光生物安全、产品可靠性、影响LED产品质量的关键因素、国际认证要求以及测试实例等内容。尽管本书力图比较全面地介绍LED产品质量检测、认证的要求,但是LED产业尚在发展之中,随着新标准的不断发展,LED产品质量要求会越来越完善。本书由俞建峰、顾高浪、陶宏锦编著。
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正版书籍 半导体数据手册 (上册)第2册 Otfried Madelung 哈尔滨工业大学出版社 正版图书支持发票 七天无理由退货让您购物无忧
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半导体器件基础 原著二版 半导体器件原理与应用详解 电子元器件基础知识教程 微电子技术专业 高校电子信息类师生学习用书 部分书籍售价高于定价严者慎拍
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【正版新书】半导体器件建模与测试实验教程——基于华大九天器件建模与验证平台XModel 正版书籍 书店
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【正版】套装 功率半导体基础与工艺系列套装 共2册 可开发票,支持7天无理由退换货
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2册 半导体存储器件与电路 余诗孟+纳米集成电路FinFET器件物理与模型 集成电路半导体工艺技术书 半导体纳米器件制造
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SMT核心工艺解析与案例分析(第2版) 贾忠中 电子工业出版社 9787121197352
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半导体纳米材料在太赫兹电场中的特性 沈韬 著 冶金工业出版社【正版】 全国三仓发货,物流便捷,下单秒杀,欢迎选购!
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【光刻技术 原著第二版 】 光刻技术 原著第二版 林本坚 半导体芯片制造集成电路光刻技术 驱动光学光刻基本方程参数 成像 正版书店 支持开票
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3册 光刻胶材料评测技术 从酚醛树脂光刻胶到的EUV光刻胶 关口淳+半导体先进光刻理论与技术+图解入门 半导体制造工艺基
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作者根据多年的研究和教学及生产实践编写,内容包括硅材料基本特性,制备原理及生产工艺,硅片的生产工艺与技术,对从事半导体材料研究、太阳电池研究、光伏材料研究和教学的人员有较好的技术参考价值。
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【】III族氮化物半导体发光二极管特性和应用 路慧敏,陈丹阳 正版书籍 书店正版全新 西南交通大学出版社 全新正版,可开发票
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![ARM Cortex-M3权威指南 [英]Joseph Yiu 著;宋岩 译 北京航空航天大学出版社](images/model/guan/url_none.png)
ARM Cortex-M3权威指南 [英]Joseph Yiu 著;宋岩 译 北京航空航天大学出版社 【速开发票,此书为单本而非一套,支持7天无理由退换】
《ARM Cortex-M3权威指南》重点介绍了新的ARM架构、指令集的总结、硬件特性以及调试系统的概览。《ARM Cortex-M3权威指南》还提供了一些程序示例,并且在其中讲解了使用GNU工具链与ARM工具的基本方法与步骤。主要内容包括:ARM架构的背景、CortexM3入门、操作模式、异常与中断、汇编语言基础、存储器系统、CortexM3上的汇编与C编程、开发流程、电源管理、多处理机通信、开发工具、调试、Keil RealView MDK使用入门等。随书附光盘1张,内含ARM CortexM3相关文章及Keil RealView MDK评估软件等。 《ARM Cortex-M3权威指南》适用于使用ARM CortexM3微控制器的研发人员作为技术、编程参考,也可作为CortexM3微控制器教学或培训用教材。
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套装 集成电路工程 共6册 索斯藤·莱尔 芯片 集成电路 半导体器件 半导体材料 半导体制造 半导体设备 封装 光刻 刻 可开发票,团购联系在线客服有优惠
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半导体集成电路制造手册+Verilog数字系统设计技术与实例分析 微电子芯片MEMS传感器电子器件 芯片集成电路设计制造
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高效功率器件驱动与保护电路设计及应用实例 周志敏、纪爱华 著 人民邮电出版社 线上线下同步销售,请咨询客服查询库存后下单,避免纠纷。
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【全2册】芯片制造—半导体工艺与设备+功率半导体器件封装技术 摩尔定律 晶圆代工 产业结构光刻技术洁净系统干法刻蚀 机械
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微纳电子器件 谢孟贤 编;姜岩峰 化学工业出版社 【速开发票,此书为单本而非一套,支持7天无理由退换】
本书主要讲述一些重要半导体器件的基本工作原理和特性,力求概念阐述清晰和理论联系实际,同时尽可能反映出器件发展的动向。由于纳米电子器件的飞速发展和未来潜在的重大作用,所以本书对此专门作为一个部分进行了简要的介绍。近年来,MEMS(微电子机械系统)器件的出现极大扩展了微电子学领域研究的范畴,本书中简要介绍了MEMS器件的主要特点和发展趋势,希望抛砖引玉,能够对国内MEMS器件的发展起到一定作用;另外,由于计算机用于半导体器件分析、模拟和设计的重要性,所以我们也专门对此有关的内容作了比较仔细的介绍。 本书可供研制微电子器件及其电路的科技人员参考,也可以供微电子本科生或研究生教学参考之用。
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异质结双极晶体管—射频微波建模和参数提取方法 【正版书籍,可开发票,满额减】
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ESD设计与综合 史蒂文H沃尔德曼+ESD物理与器件 ESD相微电子学和集成电路设计 半导体芯片ESD设计流程方法教程书
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半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲 冈崎信次 机械工业出版社 芯片光刻工艺 极紫外光刻 EUV 半导体图形制程 工业技 正版保障·七天无理由退换·企业采购/团购咨询客服享大额优惠
在当下,中国半导体产业正面临着严峻的“卡脖子”困境,关键技术的受限成为产业前行路上的巨大阻碍。而《半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲》这本书,恰似黑暗中的一盏明灯,为我们突破困境带来了希望与助力。 本书聚焦半导体微缩图形化与光刻技术,这恰是半导造的核心环节,也是中国半导体产业被“卡脖子”的关键领域。书中且深入地阐述了从光刻机到下一代光刻技术的发展路径,从光刻胶材料到多重图形化技术的精妙之处。例如,对光掩膜从起源到制造工艺及未来挑战的细致讲解,能让我们清晰洞察这一关键技术的来龙去脉;对EUV光刻技术、电子束刻蚀技术等下一代光刻技术发展趋势的深度剖析,为我们探索新的技术突破方向提供了思路;在光刻胶材料技术上,含金属光刻胶等内容的介绍,有助于我们在材料研发上寻求创新。 本书的作者团队
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4册光刻技术原著二版 半导体先进光刻理论与技术 MEMS三维芯片集成技术 功率半导体器件封装测试和可靠性 微电子材料工程 部分书籍售价高于定价严者慎拍
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半导体器件物理实验教程 9787111789611 北京枫林苑图书专营店 温馨提示:划线价为图书市场价,不是定价!商品图片仅供参考,以实物为准。(书名没写全多少册的均为单本价格)
本书注重理论与实践相结合,并配套电子课件、电子教案、视频、设备资源包丰富的教学资源,辅助教师教学。
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半导体多层膜中的电子和声子(第二版)(英文) 中外物理学精品书系 北京大学正版
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图解入门:半导体制造设备基础与构造精讲 半导体技术 机械工业出版社 全新正版 七天无理由退货 团购优惠 正规发票
说到芯片,相信关注它的朋友都知道,目前美国垄断市场占了全球50%的份额,而国内在芯片方面经常被美国卡脖子,比如中兴、华为等。而且不仅仅是卡成品芯片,还卡生产芯片的设备、材料、EDA软件等。 一说起芯片,很多朋友都会说,要加速国产替代,不让别人卡住我们的脖子。但在整个芯片产业,究竟有多少卡脖子的技术环节,我们又该在什么地方努力? 目前有很多朋友表示,芯片有三大上游产业,分别是EDA、半导体设备、半导体材料,只要搞定这三大产业,不用愁了。这样说也对,但不够,真正三大卡脖子的技术主要是在工艺、装备/材料、设计IP核/EDA。 工艺是指芯片制造工艺,这是与芯片生产企业本身的技术相关的。比如台积电、三星达到了5nm,格芯、Intel、联电等达到了10nm,而目前国产技术只达到14nm。 设备/材料其实是一体的,装备是指光刻机、刻蚀机
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表面贴装技术9787576306309 正版新书希望阶梯图书专营店 正版图书保证质量 七天无理由退货让您购物无忧
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图解入门 半导体制造设备基础与构造精讲 佐藤淳一 著,卢涛 译 机械工业出版社 正版微瑕,自有库房,消毒发货,品质保障.套装单售,优惠多多,可开发票,放心选购
适读人群 :从事半导体制造与设计的专业人员阅读 说到芯片,相信关注它的朋友都知道,目前美国垄断市场占了全球50%的份额,而在芯片方面经常被美国卡脖子,比如中兴、华为等。而且不仅仅是卡成品芯片,还卡生产芯片的设备、材料、EDA软件等。 一说起芯片,很多朋友都会说,要加速国产替代,不让别人卡住我们的脖子。但在整个芯片产业,究竟有多少卡脖子的技术环节,我们又该在什么地方努力? 目前有很多朋友表示,芯片有上游产业,分别是EDA、半导体设备、半导体材料,只要搞定这产业,就不用愁了。这样说也对,但不够全面,真正卡脖子的技术主要是在工艺、装备/材料、设计IP核/EDA。 工艺是指芯片制造工艺,这是与芯片生产企业本身的技术相关的。比如台积电、三星达到了5nm,格芯、Intel、联电等达到了10nm,而目前国产技
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7册 功率半导体器件封装测试可靠性 现代集成电路制造技术 电子封装技术 光刻技术 半导体纳米器件 光刻理论与技术 MEM
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宽禁带半导体高频及微波功率器件与电路【正版】 【正版图书,电子发票】
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现货 芯片设计基石:EDA产业全景与未来展望 华大九天 半导体 芯片设计 芯片 EDA 【可开发票】
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纳米科学与技术:有机场效应晶体管胡文平 著科学出版社9787030320629 正版旧书,保证质量,此书为单本而非一套,电子发票!
有机场效应晶体管是有机电路的基本构筑单元,也是分析有机半导体传输性能的有力工具。基于有机场效应晶体管的显示器、电子纸、射频商标等产品已经走人人们的视野,预示有机场效应晶体管具有巨大的应用前景。胡文平编著的《有机场效应晶体管》共分10章,系统、全面地介绍了有机场效应晶体管的发展历史,基本概念与原理,材料的选取、制备与表征,晶体管的构筑与实际应用等内容。 《纳米科学与技术:有机场效应晶体管》可供高等院校化学、材料、物理和信息等专业高年级本科生、研究生、教师,研究院所科研人员等阅读和参考。
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【半导体存储器件与电路 】 半导体存储器件与电路+半导体存储与系统+NAND闪存技术+存储器工艺与器件技术 闪存技术解析
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新一代功率半导体研发与应用精讲 岩室宪幸 半导体 功率半导体 集成电路 芯片 SiC器件 GaN技术 金刚石半导体 氧化
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材料科学与工程著作系列:半导体材料研究进展 王占国、郑有炓 编 9787040306996 高等教育出版社 正版图书,下单速发,可开发票
《半导体材料研究进展(第1卷)》首先回顾了半导体材料的发展史,简述了半导体材料的生长机理和现代半导体材料制备与表征新技术;然后对元素半导体锗、硅单晶材料以及硅基异质结构材料的制备、物性及其在微电子、光伏电池和光电集成方面的应用做了概述;接着介绍以GaAs、InP为代表的Ⅲ-V族化食物单晶衬底材料、趣晶格量子阱、量子线和量子点材料及应用,宽禁带GaN基Ⅲ族氮化物异质结构材料和SiC单aaa、外延材料及其相关器件应用;进而重点描述近年来得到迅速发展的以Zn0为代表的II-VI族半导体材料的研究现状与发展趋势;后分别介绍HgCdTe等半导体红外探测材料和金刚石与立方氮化硼半导体材料的新研究进展。《半导体材料研究进展(第1卷)》可作为高等院校、科研院所从事电子科学与技术、微电子和光电子学、电子工程与材料科学等专业的研究生和科研
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电子束曝光微纳加工技术 顾文琪 主编 9787563913008 北京工业大学出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
本书系统地介绍了电子束曝光技术的发展历史和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景,同时详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标,电子光学柱、精密工件台等分部件和掩模版制作、电子束直刻等关键技术。全书共分10章,第一章为电子束曝光技术概论;第二章为电子束曝光机中的电子光学系统;第三章为工件台及激光干涉仪精密定位;第四章为图形发生器;第五章为检测、对准和校正技术;第六章为电子束曝光机的计算机控制技术和数据转换;第七章为电子束曝光制图艺;第八章为真空控制系统;第九章为国内外几种束曝光机的介绍;第十章为电子束曝光技术的应用和发展前景。 本书可作为微电子专业领域的科技人员和从事微电子、微光学、微机械等微纳加工技术领域的科技人员的技术参考书,财同时还可作为高等院校专业教师、研究
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![半导体材料与器件表征 [美] 迪特尔·K·施罗德 著,徐友龙,任巍,王杰,阙文修,汪敏强 等 译 西安交通大学出版社 9](images/model/guan/url_none.png)
半导体材料与器件表征 [美] 迪特尔·K·施罗德 著,徐友龙,任巍,王杰,阙文修,汪敏强 等 译 西安交通大学出版社 9
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2024新书 相控阵雷达技术 张光义 相控阵雷达发射机系统接收系统微波光子相控阵雷达技术新型高性能半导体器件相控阵雷达技
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LED照明的质量可靠性研究分析【正版图书,电子发票】 【正版】
杨林主编的《LED照明的质量可靠性研究分析》针对LED照明产品普遍存在的质量问题与可靠性问题进行了分析和总结,提出了保障产品质量、提升产品可靠性和产品可靠性评价的技术方法,并结合作者的检测和可靠性研究经验,逐一论证了可靠性评价试验,且对典型失效产品进行了失效分析。
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先进半导体材料及器件的辐射效应 (比)克拉艾(Claeys,C.),(比)西蒙恩(Simoen,E.) 著,刘忠立 译 全国三仓发货,物流便捷,下单秒杀,欢迎选购!
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2册 光刻技术 原著第二版 半导体先进光刻理论与技术 半导体芯片制造集成电路光刻技术 光刻系统组件 微电子材料工程专业参
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集成电路版图基础 实用指南 清华社 克里斯托弗赛因特 半导体电路基础 电工电子技术集成电路板设计指南手册 电子信息前沿技
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轻松图解LED-----发光二极管的基础与应用 正版图书,下单速发,可开发票
省电、寿命长、环保、价格实惠. 近年来已快速发展到家庭照明领域中的发光二极管(LEDLight EmittingDiode),或称LED灯。备受关注的“光源”LED,在本书中用图解的方式通俗易懂地介绍了从基本原理到材料特性、产品说明书的阅读,以及应用实例等。
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集成电路关键技术丛书 芯片设计CMOS模拟集成电路设计测试封装技术碳化硅/氮化镓功率器件材料半导体器件芯片制造集成电路安 【畅销品 假一罚十正版图书 请放心下单,本店所有商品均可开票】
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半导体器件原理 黄均鼐,汤庭鳌,胡光喜 编著 复旦大学出版社【可开电子发票】 正版图书,下单前请先咨询客服,欢迎选购!
为了适应当前集成电路的迅猛发展和新型半导体器件的不断涌现,我们编写出版了本书一书。 本书不仅介绍和分析了集成电路领域内一些基本器件,如p-n结、双极型晶体管、单栅金属氧化物场效应管、功率晶体管等的基本结构和工作原理,还根据当前科学技术的发展,介绍和分析了一些新型器件的结构和工作原理,如铁电存储器、相变存储器、阻式存储器、多栅场效应管以及肖特基势垒源/漏结构场效应管等。 本书的作者们在集成电路领域具有多年的教学和科研经验,希望通过该书的学习或阅读,为读者了解集成电路领域传统的和新型的半导体器件结构以及它们的基本原理有所帮助。本书可作为电子科学与技术类低年级本科生的教材,也可供高年级本科生以及研究生等参考使用。
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常用电子元器件识别/检测/选用一读通 赵广林 著 电子工业出版社【正版书籍】 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
本书采用数码照片的形式对各种元器件进行详细的介绍,使读者可以“零距离”地认识这些元器件;在写作形式上,力求通俗易懂,以满足不同文化层次的读者需求;在内容上,花费大量的篇幅讲述最常用、最实用的元器件资料,而对一些应用范围很小的元器件则只做简单介绍,以使读者能够学习到电子元器件知识的“精华”,做到“学以致用”;在应用电路实例中,尽量介绍日常生活中常用的电子产品电路,使读者在学习电子元器件知识的同时可以掌握各种电器的原理,加深学习的效果。 。
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官网正版 碳化硅技术基本原理 生长表征器件和应用 木本恒畅 电力 功率器件 半导体 智能电网 微电子 机械工业出版社旗舰
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二氧化钛光催化活性 苗慧、崔玉民、张坤 著 9787122188427 化学工业出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
光催化技术是一种新兴高效节能现代绿色环保技术,它是利用光辐射将污染物分解为无毒或毒性较低的物质的过程。在众多的光催化剂之中,TiO2以其催化性能优良、化学性能稳定、安全无毒、无副作用、使用寿命长等优点而被广泛使用。 《二氧化钛光催化活性》是笔者根据多年从事TiO2光催化技术科研和教学经验编写而成,全书共7章,分别阐述了二氧化钛光催化技术发展过程,二氧化钛光催化反应原理及半导体偶合、金属离子修饰、贵金属沉积、两种元素共同修饰二氧化钛光催化剂与其它因素对二氧化钛光催化活性影响。 本书既具有较高的理论参考价值,又有较为广泛的应用价值,它既可提供科研部门相关专业的科研人员作为学术研究参考,也可供高等院校相关专业的本科生和研究生作为教学用书或参考书。
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硅加工中的表征 哈尔滨工业大学出版社 新华书店正版,多仓就近发货,85%城市次日达,团购优惠咨询在线客服!
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