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半导体简史 王齐 范淑琴 半导体产业发展 通信 集成电路 芯片 半导体材料 量子力学
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图解入门 半导体制造工艺基础精讲 原书第4版 佐藤淳一 芯片技术 结构图例 硅晶圆 晶格 离子束扫描
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半导体材料及器件的辐射效应刘忠立国防工业出版社9787118119299 正版图书保证质量 七天无理由退货让您购物无忧
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【碳化硅功率器件特性、测试和应用技术 】 氮化镓电子器件热管理功率器件材料应用及可靠性晶体管器件电路SiC/GaN功率半 正版图书 可开发票 如需帮助请联系在线客服
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半导体手册 基础原理与新兴应用 拉姆 古普塔 半导体 半导体材料 半导体工艺 芯片 集成电路 传统新兴半导体材料知识原理
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LED照明工程与施工 杨清德 著 9787508257280 金盾出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
系统讲述了LED在室内外照明工程中的施工技术,从LED基础知识入手,详细介绍了LED照明驱动电源及应用,LED灯饰控制、信号中断放大等控制技术及应用,常用LED照明灯具及应用,LED发光字和LED立体发光字的设计、制作技术,LED景观照明安装与施工技术,LED室内装饰照明的安装施工和LED户外工程施工技术以及LED数码管和显示屏。《LED照明工程与施工》通俗易懂,适合LED工程安装技术人员、广告制作及安装人员、电工电子技术人员阅读,也可供职业院校相关专业师生参考。
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![先进半导体材料及器件的辐射效应 [比]克拉艾(Claeys C) 著;刘忠立 译 9787118054088 国防工业出](images/model/guan/url_none.png)
先进半导体材料及器件的辐射效应 [比]克拉艾(Claeys C) 著;刘忠立 译 9787118054088 国防工业出 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《先进半导体材料及器件的辐射效应》在介绍辐射环境、空间应用器件的选择策略以及半导体材料和器件的基本辐射效应机理的基础上,介绍IV族半导体材料、GaAs材料、硅双极器件以及MOS器件的辐射损伤,接着介绍了基于GaAs材料辐射加固的场效应晶体管及空间应用的光电子器件,最后对先进半导体材料及器件的应用前景进行展望。 《先进半导体材料及器件的辐射效应》特别强调辐射效应的基本物理,介绍的内容反映当前半导体材料及器件辐射效应和辐射加固技术研究的最新进展,对于相关领域的研究及应用均具有重要的参考价值。 《先进半导体材料及器件的辐射效应》适合于从事空间技术及高能物理研究和应用,以及从事辐射加固半导体器件及制造等领域的广大科技人员阅读,也可以作为相关领域研究生及大学生的教学参考书。
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![超高速光器件 [日]斋藤富士郎 著;崔承甲 译 9787030101792 科学出版社](images/model/guan/url_none.png)
超高速光器件 [日]斋藤富士郎 著;崔承甲 译 9787030101792 科学出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《超高速光器件》是先进光电子技术丛书之4。书中简明扼要的介绍了各种超高速光器件。《超高速光器件》共9章,主要内容有:第1章概要介绍书中涉及到的各种超高速光器件;第2章介绍有关半导体器件的基础内容,第3-5章介绍最具有代表性的半导体激光器;第6-8章则介绍超高速光调制器、超高速光开关和超高速光探测器;第9章叙述量子线、量子点和光子晶体等。 《超高速光器件》可作为高等院校相关专业的本科生及研究生教材,亦可供相关领域的研究人员、技术人员参考。
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半导体制造技术 (美)夸克,(美)瑟达 著,韩郑生 等译 电子工业出版社【正版书】 全国三仓发货,物流便捷,下单秒杀,欢迎选购!
《国外电子与通信教材系列:半导体制造技术》旨在介绍半导体集成电路产业中的新工具和技术,以便提离读者在工作过程中理解与使用相同或类似工具的能力。全书在细节上覆盖了用于亚0.25μm(0.18μm及以下)工艺的新技术,通过描述早期的工具和工艺来阐明现代技术的发展。书中包括铜互连、化学机械平坦化(CMP)、低k介质工艺、浅槽隔离(STI)、深紫外化学放大光刻胶、步进与扫描系统、具有双大马士革的铜金属化等。书中还解释了产业变化漫长历史中的所有工艺和设备,以及工艺需求和设备性能的技术关系,并给出了设备潜在性能与制造所需工艺参数之间的折中。
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【认准正版 量大优惠】 半导体制造技术导论(第二版)萧宏 半导体工艺技术教材 半导体加工关键技术 集成电路工艺 电子工业 正版新书 正规电子发票 联系客服领取
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电子束曝光微纳加工技术 顾文琪 主编 9787563913008 北京工业大学出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
本书系统地介绍了电子束曝光技术的发展历史和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景,同时详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标,电子光学柱、精密工件台等分部件和掩模版制作、电子束直刻等关键技术。全书共分10章,第一章为电子束曝光技术概论;第二章为电子束曝光机中的电子光学系统;第三章为工件台及激光干涉仪精密定位;第四章为图形发生器;第五章为检测、对准和校正技术;第六章为电子束曝光机的计算机控制技术和数据转换;第七章为电子束曝光制图艺;第八章为真空控制系统;第九章为国内外几种束曝光机的介绍;第十章为电子束曝光技术的应用和发展前景。 本书可作为微电子专业领域的科技人员和从事微电子、微光学、微机械等微纳加工技术领域的科技人员的技术参考书,财同时还可作为高等院校专业教师、研究
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本系列丛书反映当今日本的微电子技术。从内容和编排角度看,目前尚无同类图书。《超高速光器件》主要内容:序论,半导体元件的基本结构,高速半导体激光,振荡同步半导体激光器,增益半导体激光器,超高速光调频器,超高速光开关,超高速光检测器,量子线、量子点、光痕结晶等。 《超高速光器件》特点:内容新颖、技术先进、深入浅出;有较强的实用性。
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正版 图解入门——半导体工作原理精讲机械工业出版社9787111751670(日)西久保靖彦著半导体技术 正版图书,下单速发,可开发票,售后无忧!
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功率半导体器件及其仿真技术【正版图书,满额减,电子发票】 【正版】
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半导体先进光刻理论与技术 光刻理论工艺材料设备关键部件分辨率增强建模与仿真典型物理与化学效应 微电子材料工程专业参考教材
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